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包括H

日期:2008-06-22|人气:26|


发明人
J·S·范登赛普;R·B·范肯佩马
地址
美国康涅狄格州
概述
闭合回路控制系统控制水或氢引入到炉区,在此炉区零件经受高温以完成热处理过程。该热处理过程使零件参与还原和/或氧化反应,只要维持一个氢/水比设定值此反应就在高温下保持平衡。该系统包括一个与炉区相通的氧探头,它用于提供(i)表示炉区中测定的氧浓度的氧输出,和(ii)表示炉区中温度的温度输出。控制器从氧输出和温度输出确定炉区中氢与水的测得比,将此测得比和氢/水比设定值比较,根据确定的测得量比与此设定值之间的差提供修正信号输出。流量控制器响应修正信号输出,以便提供氢和水中之至少一种的流量到此炉区,以使氢/水比移向上述比设定值。
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要害点
用于控制将水或氢引入炉区的装置,在上述炉区中,零件经受高温以完成热处理过程,该热处理过程中使该零件发生还原和/或氧化反应,只要维持一个氢/水比的设定值,该反应就在所述的高温下保持平衡,所述装置包括:与所述炉区信息相通的氧探头装置,该装置用于提供表示所述炉区中测定的氧浓度的氧输出和表示其中温度的温度输出;用于测定上述氧输出和温度输出,测量此炉区中的氢/水比,以便将测量的该比与氢/水比设定值比较,及根据确定的上述测得的比和所述比设定值之间的差提供修正信号输出的控制器装置;和响应上述修正信号输出的流量控制装置,该装置用于提供氢和水中至少之一的流量到炉区,以使所述氢/水比移向所述比设定值。